平單軸支架長度可超百米，地形略微的起伏都會使得支架的南北向高差過大；這會造成陰影遮擋，并且無法行走清洗機器人。
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為此，一般需要對支架進行調整，使得南北相鄰支架的高差在設定范圍內（一般在0.3米左右），但支架立柱的可調節(jié)范圍一般只有0.3米左右，必然會有立柱的長度不滿足要求。因此，一般需要對場地進行平整。
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表1-1?方案1主要場平結果
圖1-1:方陣軸線方向剖面(地塊1,不考慮土方平衡)
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表2-1?方案2主要場平結果
圖2-1：方陣軸線方向剖面（地塊1，全局土方平衡）
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表3-1方案3主要場平結果
圖3-1：方陣軸線方向剖面（地塊1，各自土方平衡）
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各方案的主要場平結果如下：
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方案 |
挖方體積（m3） |
填方體積（m3） |
凈方體積（m3） |
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無平衡 |
-4770.06 |
6402.24 |
1632.2 |
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全局平衡 |
-6015.72 |
5683.88 |
-331.84 |
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各自平衡 |
-6091.97 |
5832.16 |
-259.81 |
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可以看出：
1）不管是全局還是各自平衡，都能達到將土方控制在接近平衡（一般允許部分挖方）的狀態(tài)；
2）土方平衡的代價是挖方、填方都會增加；
3）各自平衡方案，可減少地塊之間的土方運送，但挖填方量會高于總體平衡。